此时，已经上午10点钟了。


    许黎看着试验台上的东西，终于是松了一口气。


    “终于做出来了！”


    然后他就瘫在椅子上，身心顿时放松了下来。


    毕竟这吸转器可没有那么容易搞定。


    需要尝试不同的吸收材料，对比参照实验，这样才能更大程度的处理碎屑污染。


    经过一番筛选后，许黎在小黑的帮助下，成功弄出一种合成材料，才达到不错的碎屑吸收效率。


    将其制成吸转器，可以将碎屑吸收，并且进一步的转化成电能。


    其中的构造可谓是复杂无比。


    这时，许黎听到身后有脚步走动的声音。


    李默的身影就出现在他身旁，看了试验台那一个环状装置顿时眼睛一亮。


    “校长，这吸转器搞出来了？”


    “嗯，可费了我不少的脑细胞，现在赶紧将光源搞出来看看吧！”


    许黎回道。


    “那好，我叫徐教授过来。”


    不久，徐华来到了实验室，对许黎做出来的吸转器亲自测试了一番，为此赞不绝口。


    “这下子太好了，我们可以不用之前的两种方案类，直接安装吸转器就可以了，这样极紫外光源就可以搞出来了！”


    徐华很是高兴地说道。


    “啊哈~那你们先搞着，我先去隔壁休息了，熬了一夜了，有问题再叫我！”


    许黎打了个哈欠。


    “好，那校长你先休息一下，后面的工作就交给我们把。”


    “嗯，好。”


    许黎实在困得不行了，就直接出了实验室去了隔壁的休息室休息，那里有临时打的床铺，专门给经常熬夜研究的科研工作人员休息用的，还准备了一些必要的常规药品和直饮水机，以防不时之需。


    许黎关上了门，闭上双眼，沉入梦境。


    而梦境之内，他就像一个旁观者，浮于梦里，看到了一个个心想事成的片段：


    国产极紫外光刻机横空出世、震惊世界，自己创办的燧人大学也正式进入了全国乃至世界的眼里，学子络绎不绝，仿佛汪洋大海般的，容纳这些孜孜不倦追求理想和智慧的学子....


    而后就是一段一段的模湖片段，因为速度很快，看不清发生了什么。


    但最后，他忽然辗转之间，来到群星之间，回首望去，一个星系在他眼前映现。


    那是太阳系，人类赖以生存的恒星系。


    而这时，一道流光似乎划破了星空，直入太阳系，带着宛如“彗星”的尾巴，消失不见了。


    “校长！校长！”


    忽然，一道兴奋而激动的声音在他耳边响了起来。


    许黎从梦境挣脱，睁眼之时，只见李默已经在床前站着了。


    许黎揉着惺忪的双眼，疑惑道：“怎么了？”


    “成功了！我们的极紫外光源研制成功了！”


    李默面色激动地道。


    许黎立扫困意，睁大了眼，“真的？我们一起去看看！”


    他也不顾李默了，直接离开休息室。


    等他来到实验室后，发现已经有不少人正围着一个机器，有些还在一边拿笔记本或电脑记录着什么数据。


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    “校长，你来了。”


    徐华见到许黎两人到了，挥手示意让其他人让出路来。


    许黎走过来一看，发现一个箱形装置已经静静地躺在试验场地中央。


    “这就是极紫外光源？成功了？”


    许黎疑惑道。


    “是的，我们已经成功将该光源研制出来了，再经过我们多次重复试验以及对比论证，现在，过程极紫外光刻光源已经完成了研制，加上我能独立设计的透镜物镜及其光学系统，其性能超过目前国汉斯猫的5倍左右，如果能够配合好的其他光刻机部件，那该组装完成的光刻机可以综合提升35%左右，可以制作性能优秀的5纳米芯片......”


    徐教授兴奋地解释道。


    他还从来没有相关，一个工业明珠上的皇冠的一个核心部件，就这样被他们攻克了。


    只要给他们时间，燧人科技也能挤进全球半导体顶尖玩家的殿堂，成为euv光刻机部件供应链的厂商之一。


    到时候也能在半导体领域上拥有自己的话语权，即使没有拥有全套的光刻机制造技术，但是起码不至于让国内这么的被动。


    “既然如此，我们也应该通知一下我们的盟友，想必他们也等急了。”


    许黎一笑。


    “好！”


    徐华应了一声。


    春城，长光电所


    陈所长此刻正愁着怎么改进光刻机呢。


    虽然之前已经通过花为的牵线搭桥和燧人科技搭上了，主要是合作改造现有光刻机。


    而这个改造的光刻机主要是28nm的光刻机，因为现在国内的光刻机也只能勉强达到28nm工艺。


    据魔都微电子透露，明年他们有望交付首台国产28纳米工艺浸没式光刻机。


    算是在刚好迈在高端光刻领域的门槛，也就是现在国内的光刻科技水平还停留在中端水平。


    根据光刻机工艺水平，光刻机主要划分为超高端、高端、中端、低端四个层次。


    首先，光源euv13.5nm、节点5nm\/7nm的光刻机是处于超高端层次的，全球只有amsl这一家公司可以组装制造。


    其次，光源arf+浸入式，节点在7~28nm处于高端层次的。


    最后，光源arf\/krf\/i-line，且节点是65nm+或90nm+的，分别处于中端、低端层次。


    注意，这里的arf\/krf指的是深紫外光刻光源。


    想要制作更好的的芯片，那就得造出更好的光源，比如极紫外光源（euv）。


    即使是这种arf 28nm光刻机和amsl公司最先进的euv5nm光刻机工艺有着天壤之别。


    但是也能将国内的光刻水平提升到世界先进水平，完全可以满足常见的射频芯片、蓝牙芯片、功放芯片、电器的驱动芯片等绝大部分逻辑芯片的要求，以及大部分数字芯片的要求。


    陈所长也听说三桑目前正在研究3nm芯片工艺的光刻机，也许很多人都以为很厉害，但是对于他这种业界的人自然知道其中的道道。


    现在的7nm或5nm芯片，不是从前的含义，最准确的是牙膏厂的命名，只是它也学坏了。


    芯片的纳米制程并不是真的几纳米，更多是一种更新迭代的说法。


    上一代可能是4nm，下一代根据摩尔定律乘以根号7，差不多3nm。


    以前的制程是指晶体管的宽度，现在则是晶体管的沟道宽度，就出了这种个位数的纳米制程。


    就像目前三桑研究的3nm光刻机，由于极紫外光刻技术受到光电效应的影响，可能其实际线精度在十几纳米或20纳米。


    不过这种纳米制程的芯片如果不用euv光刻机的话，也是弄不了的。


    虽然各厂家的命名方法各有所别，但也不是完全没有意义。


    长光机电所也在为接下来的14nm工艺光刻机刻苦攻坚。


    只是没有极紫外光源，想要做成这样的光刻机恐怕很难。


    “唉~”


    陈所长也知道这需要不长的时间，可能几年、几十年，甚至最坏的结果——失败。


    但是还是要继续攻研技术，要不然以后只能被人牵着牛鼻子走啊。


    就在陈所长满心忧愁的时候，一个电话响了起来，打断了他的思绪。


    他接起来一听，顿时眼睛睁瞪如灯笼般大小，惊声道：


    “什么?燧人科技的极紫外光源成功了？！”